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차세대 반도체 공정 장비 기술 개발...산업 불균형 해소 / YTN

2018-05-08 8 Dailymotion

우리나라는 반도체와 디스플레이 강국이지만, 수십억 원이 넘는 첨단 장비는 전량 수입에 의존하고 있는데요.<br /><br />이런 가운데 국산화가 가능한 차세대 공정 장비 핵심 기술이 개발돼 그동안 소자 기술에만 집중된 국내 반도체 산업의 불균형 해소에 도움을 줄 것으로 기대됩니다.<br /><br />이정우 기자입니다.<br /><br />[기자]<br />어떤 물질이 거쳐 온 과거가 현재 상태에 영향을 주는 현상을 '히스테리시스', 즉 이력현상이라고 합니다.<br /><br />국내 연구진이 50여 년 동안 학계에서 풀지 못했던 플라스마의 히스테리시스 원인을 규명하고, 이를 제어할 수 있는 기술을 개발했습니다.<br /><br />플라스마를 이용하는 반도체나 디스플레이 공정에서 품질을 떨어뜨리는 고질적 문제를 해결해 생산성 향상에 도움을 줄 전망입니다.<br /><br />[이효창 / 한국표준과학연구원 반도체측정장비팀 : 히스테리시스가 플라스마 내에 있는 전자에너지 분포에 기인한다는 것을 알 수 있었으며, 이런 정밀 측정법을 기반으로 해서 규명을 했습니다.]<br /><br />연구진은 정밀 측정법을 이용해 히스테리시스의 원인이 플라스마 내 전자에너지 분포에 의한 차이라는 사실을 최초로 밝혔습니다.<br /><br />이와 함께 특정 비활성 기체를 주입하거나 최적화된 공정에서 안정적으로 플라스마를 사용할 수 있는 제어 기술도 개발했습니다.<br /><br />플라스마를 안정적으로 제어할 수 있는 이 기술은 반도체 시장의 양대 산업인 소자와 장비산업의 동반 성장을 이끌 것으로 기대됩니다.<br /><br />반도체 시험 등에 사용되는 고부가가치의 첨단 장비는 그동안 전량 수입에 의존해 왔습니다.<br /><br />하지만 이번 기술 개발로 장비를 국산화함으로써 반도체 산업에 새로운 전기를 마련할 수 있게 됐습니다.<br /><br />[김정형 / 한국표준과학연구원 반도체측정장비팀 : 플라스마가 사용되는 공정에 이런 결과를 적용함으로써 실제 반복성이나 재현성이 있는 그러한 공정을 안정적으로 확보하는데 큰 기반이 되는 기술입니다.]<br /><br />이번 연구 결과는 응용 물리 분야 국제학술지 '어플라이드 피직스 리뷰' 초청 총설 논문으로 실렸습니다.<br /><br />YTN 이정우[ljwwow@ytn.co.kr]입니다.<br /><br />▶ 기사 원문 : http://www.ytn.co.kr/_ln/0115_201805090122598319<br />▶ 제보 안내 : http://goo.gl/gEvsAL, 모바일앱, 8585@ytn.co.kr, #2424<br /><br />▣ YTN 데일리모션 채널 구독 : http://goo.gl/oXJWJs<br /><br />[ 한국 뉴스 채널 와이티엔 / Korea News Channel YTN ]

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