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CLC2 - Metrificação de patentes: Uma análise entre qualidade, complexidade e esforço.

2025-01-14 7 Dailymotion

Vídeo melhor visualizado na velocidade 1.5x. <br />Ciência da Lógica & Complexidade [CLC2]. Apresentação de um artigo científico que fala de técnicas para a mensuração de patentes de propriedade industrial, que são um tipo de atividade intelectual explicitada (AIE) que pode ser realizada por servidores públicos. O índice Interno de esforço (IIE), em sua aproximação da complexidade (IIEa) é comparado a outras técnicas da literatura científica, tendo como principal diferencial a capacidade de medir os resultados da patente no momento do seu depósito (registro). O IIEa é um medidor genérico da complexidade criado especialmente para melhorar a avaliação de desempenho de servidores públicos do Brasil. <br /><br />Referência: Oliveira, A. A., Fung, C. W. H., Burkarker, E., Pilatti, L. A. & Santos, C. B. (2023). Metrificação de patentes: Uma análise entre qualidade, complexidade e esforço. In: Encontro Nacional de Engenharia de Produção, 2023, Ceará. XLIII ENEGEP. DOI: 10.14488/enegep2023_tn_st_404_1989_45333. Disponível em: . <br /><br />Sumário <br />0:00 Capa <br />0:30 Resumo <br />3:55 Introdução <br />15:30 Métricas de patentes <br />23:06 O dataset (dados) da pesquisa <br />27:55 Variáveis das patentes (brainstorm) <br />41:46 Resultados estatísticos (correlação) <br />46:20 Distribuição Normal (Gaussiana) <br />54:30 Discussão dos resultados e conclusões <br />1:03:00 Sínteses e considerações finais

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